杭州亚运会竞赛项目设置为：自行40个大项，61个分项，481个小项。

随后，国永尼尔科达市场部经理赫丽向在座的所有代理商介绍了全员联动上下营销的计划与安排。无疑，不磨这为双方未来的合作打下了坚实的基础。

迈向更高层次的重要里程碑接着，记忆集团总经理郑武详细介绍了集团概况和昌图工厂的建设情况，强调了制造实力和产能的重要性。他表示，自行一方树将围绕创新、健康、艺术三大核心理念展开。工厂硬核实力见证，国永展厅产品品质加持工厂内，机器轰鸣，一片繁忙而有序的景象。

他强调：不磨一方树正是通过创新和环保理念，打破了传统格局，满足了消费者对高品质生活的追求。她表示：记忆我们将打造一个全员参与的营销体系，从产品设计、生产、销售到售后服务，每个环节都与我们的代理商紧密相连。

透过一方树的产品，自行可以看出品牌对于环保理念的坚守和对艺术的热爱。

在启动会上，国永与会者首先参观了一方树的工厂和展厅。图3.TPBNA和DPBNA的紫外可见吸收（a）和荧光（b）光谱由于外围苯基取代基的π拓展，不磨与母体BNA相比，不磨TPBNA和DPBNA低能量吸收峰发生了显著的红移，DPBNA和TPBNA的光学带隙更窄，分别为3.01eV和2.93eV（BNA:3.23eV），在荧光光谱中也观察到了类似的红移趋势（图3）。

通过边缘工程的策略，记忆作者减少了TPBNA外围的苯基取代基数量，所得的DPBNA具有更好的平面性，扭转角减小到10.45°和7.68°。进一步研究表明，自行基于DPBNA单晶的光晶体管器件也展示出优异的光探测性质，揭示了BN-PAHs在光电器件中广泛的应用潜力。

合作者包括北京大学裴坚教授、国永王婕妤副教授、姚泽凡博士以及天津大学胡文平教授。DPBNA的迁移率高达1.3cm2 V-1 s-1，不磨是目前报道的BN-PAHs中的最高值，不磨并首次超过了非晶硅（0.5~1cm2 V-1 s-1），是第一例可以跻身高迁移率有机半导体行列的BN-PAH分子（图7）。